구분 |
사양 |
구분 |
사양 |
장비 형식 |
수평 또는 수직형 초고온 가스반응 진공로 |
Retort Muffle 형식 |
다각조립형 Graphite 원통 |
장비 용도 |
세라믹 막 증착(CVD) 또는 치밀화 함침(CVI) |
공정 가스 |
[MTS, CH4, TaCl4, HfCl4, BCl3-NH3], H2, N2, Ar |
합성 재료 |
SiC, TaC, HfC, BN, (Pyrolitic) Carbon |
공정 압력 |
5KPa ~ 50KPa |
적재 공간 |
254L ~ 3532L |
진공배기 |
Mechanical Booster Pump + Dry Pump |
사용 온도 |
고온형[Max. 1600℃], 초고온형[Max. 2400℃] |
제품 장입 |
승강식 하부도어 장입, 턴테이블 회전 |
온도 분포도 |
± 6~12℃ [1000℃, No Load, Vacuum] |
도어 잠금 방식 |
유압 클램프 잠금 방식 |
승온 속도 |
2~10℃/min |
배기 처리 |
응축 Trap, 분진 Filter, Scrubber |
온도 제어 |
열전대와 SCR에 의한 Multi Zone PID 제어 |
시스템 제어 |
PLC Control, PC or Touch Panel Operation |
가열실 재료 |
Graphite |
Electric Power |
AC 3Φ 또는 DC |